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ETD-2000型離子濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。
特點：
1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監控儀器狀態；
2. 濺射電流調整控制器、微型真空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得**鍍膜效果；
3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象；
4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經久耐用；
5. 根據電場中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。
型號 | ETD-2000 |
主機規格 | L360mm*W300mm*H380mm |
靶（上部電極） | 金：直徑：50mm，厚度：0.1mm |
真空樣品室 | 直徑：160mm，高：120mm |
濺射面積 | Ф50mm |
真空指示表 | **真空度：≤ 4X10-2 mbar |
離子電流表 | **電流：50mA(100mA) |
定時器 | *長時間：3600S |
微型真空氣閥 | 可連接φ3mm軟管 |
可通入氣體 | 多種 |
**電壓 | -1600 DCV |
機械泵 | 2L/S |
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