掃描型近接場光學顯微分光系統NFS series

▼概要

日本分光株式會社生產的可以分光測定的掃描型接近場光學顯微鏡NFS系列，世界一流。這臺裝置能10-100nm左右的空間分解力進行顯微分光測量。能在微小的領域觀測光譜強度變化以及波峰變換可更好的對物質特性描述。

◆特征

?世界**臺一體化掃描型近接場光學分光顯微鏡

?數十～百nm高空間分辨率測量顯微分光。

?使用日本分光制的探頭可準確使用特定大小的近接場光。

?可同時測量樣品表面微小的凹凸形狀。和原子力顯微鏡（AFM）類似的用法。

? illumination（透過）、collection、 illumination－collection測量方式。

◆近接場光學顯微分光裝置

對于微小領域的表征方法有利用電子線的電子顯微鏡形態觀察、 X線微分析儀，掃描型探頭電鏡表面形狀觀察。這些分析方法可以得到高空間分辨率的畫像、但是得不到樣品表面的化學信息。另外，雖然、顯微FT/IR分光、顯微光激發光分光、顯微拉曼光等可以得到表面化學信息，但是因為空間分辨率有限度、所得到的信息也停留在微米量級。原因是光的衍射是有限度的不能超過使用波長范圍。

◆新開發光纖制作技術

NFS系列光纖前端約為數十～百nm開口的探頭用于近接場光產生或者近接場光集光。日本分光的開口技術以神奈川科學技術科學院（KAST）的研究成果基礎上開發的、特定尺寸的開口，再現性好。開口的尺寸用電子顯微鏡高度的控制。

◆NFS series產品種類豐富

主要有以下種類。重點介紹近接場顯微紅外分光系統。別的型號詳細請咨詢。

?室溫型／低溫型　近接場光照射裝置（NFS-220/320）?室溫型／低溫型近接場用掃描裝置（NFS-210/310）?室溫型／低溫型　近接場蛍光／光激發光分光裝置（NFS-230/330）?近接場顯微鏡近紅外分光裝置（NFS-220FT/320FT）?近接場顯微紅外分光裝置（NFIR-200/250）?近接場納米碳素管評價裝置（NFS-230C/330C、特殊定制）?近接場時間分解分光裝置（NFS-230TR/330TR、特殊定制）

◆NFIR-200/250　近接場顯微紅外分光系統

近接場顯微紅外分光裝置紅外分光法代表的振動分光法、不論有機?無機應用于各種分析領域。但是，現有的紅外顯微分光系統空間分辨率受光的衍射現象的影響，限度為10μm左右。近接場分光法、可以超過這個衍射限度、可見光區域應用于從亞微細米到納米規模的光分析，紅外區域由于光纖探頭吸收的原因不能進行分光分析。紅外領域通過采用漫反射型近接場光學系統、實現了從近紅外到中紅外領域的亞微細米空間分辨率的分光測量。通過照射到探頭前端的紅外光產生紅外近接場光、檢測近接場光和樣品共鳴漫反射結果信號、測量紅外近接場光譜。空間分辨率不受紅外波長影響、由探頭前端產生近接場光的實際尺寸決定、大約探頭前端徑大小。因此，紅外分廣發可用于亞微細米以下領域測量。

▼特征和系統略圖

?漫反射型近接場光學裝置可除去光纖探頭吸收的影響。

?環保配置。

?NFIR-250的FT部裝有大型測量用的樣品室，可對應一般的紅外測量。

▼NFIR-200/250規格