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BHO200型超高溫氧化爐品牌
拉普拉斯產地
廣東樣本
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項 目 | 高溫氧化爐 |
功 能 | ? 用于SiC、GaN等高溫氧化工藝 ? 滿足真空/氣氛高溫氧化工藝 |
重要參數 | ? **晶圓尺寸：滿足6寸以下晶圓工藝要求 ? **載片量：50片/批 ? **加熱溫度：1500℃ |
裝卸片方式 | ? 立式垂直升降 ? 立式真空密封系統 |
拉普拉斯新能源科技股份有限公司（LAPLACE Renewable Energy Technology Co., Ltd.）成立于2016年，是一家由多位海內外半導體設備領域高端人才創立的高科技高端裝備研發制造企業。拉普拉斯致力于成為**的泛半導體領域核心工藝解決方案提供商。
拉普拉斯現有人數規模超過1840人，公司擁有一支包含多名外籍專家和多名博士在內的核心研發團隊，研發人員占比14.89%，技術人員占比27.28%。公司在深圳坪山區擁有一座8000平方米的研發中心和生產廠房，公司在無錫占地137畝，一期**棟廠房13000平方米已建設完成并投入使用，可滿足單月產能400臺套以上的生產需求，未來2-3年將快速完成二期和三期的工廠建設規劃。
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