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物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition），指將材料源表面氣化并通過低壓氣體/等離子體在基體表面沉積，包括蒸發、濺射、離子束等。
利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的制備設備
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