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總部位于德國柏林科技園區的SENTECH儀器公司，已成為光伏生產設備世界市場之 一.我們是一家快速發展的中型公司，擁有60多名員工，他們是我們有價值的資產我們団 隊的每個成員都為公司的成功做出貢獻，我們總是在尋找與我們志同道合的新工作伙伴，我 們誠摯期待您的加入。
等離子刻蝕設備
ICP-RIE等離子刻蝕機SI500
產品介紹
高端等離子刻蝕設備SI 500使用低離子； 能量的電感耦合等離子體用于低損傷刻: 蝕和納米結構刻蝕。
通過在廣泛的溫度: 范圍內的動態溫度控制確保了可重復且穩定的等離子刻蝕條件。深反應等離子；
刻蝕（硅，III-V族半導體，MEMS）可: 采用低溫工藝和室溫下的氣體切換工藝: 來實現。
特點
*低損傷刻蝕 ?高速刻蝕
*自主研發的ICP等離子源
*動態溫度控制
RIE等離子刻蝕機Etchlab 200
產品介紹：
經濟型等離子刻蝕設備EtchLab 200具備 低成本效益高的特點，并且支持揭蓋直接 放置樣片。
EtchLab 200允許通過載片 器，實現多片工藝樣品的快速裝載，也可 以直接快速地把樣品裝載
在電極上。RIE等離子體刻蝕設備具備占地面積小， 模塊化和靈活性等設計特點.
特點
*低成本效益高
*升級擴展性
*SENTECH控制軟件
RIE等離子刻蝕機SI 591
產品介紹
SI 591特別適用于采用氟基和氣基 :氣體的工藝，可以通過預真空室和電 :腦控制的等離子
工藝系統實現。SI 591的特點是占地空間小，高度靈活性，
例如，SI 591可作為單一反應腔系統集成在多腔系統中。
特點
工藝靈活性
*占地面積小且模塊化程度高
*SENTECH控制軟件
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