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無掩膜光刻機

無掩膜光刻機
  • 品牌:安徽澤攸
  • 產地:安徽
  • 關注度:435
  • 型號:無掩膜光刻機
  • 報價:面議
  • 信息完整度:
核心參數
    產品介紹

      澤攸科技無掩膜光刻機是一種先進的光刻技術設備,它不需要使用傳統的物理掩膜版來轉移電路圖形,而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光,形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。

      技術特點

      ▲ 納米壓電位移臺拼接技術

      ▲ 紅光引導曝光,所見即所得

      ▲ OPC修正算法優化圖形質量

      ▲ CCD相機逐場自動聚焦

      ▲ 灰度勻光技術

      光路遠離結構圖

      光路遠離結構圖

      主要指標

      技術參數.png

      應用案例

      應用案例

      應用案例

      應用案例


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    工商信息

    企業名稱

    安徽澤攸科技有限公司

    企業類型

    信用代碼

    91340700MA2N3U8Q3E

    法人代表

    注冊地址

    成立日期

    注冊資本

    有效期限

    經營范圍

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    澤攸科技成立于2016年,擁有安徽、北京、上海和東莞四家分公司,是一家具有完全自主知識產權的精密儀器高科技公司。公司專注于掃描電鏡、原位測量系統、臺階儀、探針臺、電子束光刻機等精密設備的研究,填補了國家在科學精密儀器領域的諸多空白。人才是企業的核心競爭力和發展的驅動力。澤攸科技于20世紀90年代便開啟電子顯微鏡及相關原位附件的研發,已逐步打造成為科學精密儀器領域人才聚集地。現有員工200多人,其中院士、專家團隊20余人,擁有精通機械、光學、超高真空、電子技術、微納加工

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