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德Zeiss電子束直寫儀SEM 型號：Zeiss Sigma SEM

主要功能：

·利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結(jié)構(gòu)（*小線寬為10mm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件，光子晶體，低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。

·技術(shù)指標(biāo)：

·肖特基熱場發(fā)射電子源

·加速電壓：100V～30kV

·放大倍率：12X～1000，000X

·SEM分辨率：1nm@30kV，1.5nm (15kV)，2.8nm（1kV）

·電子束曝光：10nm（20kV）

·場拼接精度：<100nm

·掃描頻率：6MHz

·圖形格式：GDSII