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PMMA(polymethyl methacrylate)是一種非常適合許多成像和非成像微電子應用程序的聚合物材料。通常用于電子束工藝曝光，如T-gate制造。還用于臨時晶片接合工藝如晶片減薄，用作保護層和臨時粘合劑。
PMMA光刻膠是PMMA聚合物被溶解在特定的分子量溶劑中，如苯甲醚（安全的溶劑），然后過濾。傳統曝光，直接寫曝光或X-射線曝光使聚合物的斷鏈，從而在光刻膠的曝光和未曝光區域之間產生溶解度差異，實現非常高分辨率的圖像。
PMMA的分類：
1）PMMA 495 A系列
2）PMMA 495 C系列
3）PMMA 950 A系列
4）PMMA 950 C系列
PMMA特性：
1）溶劑：苯甲醚（A）和氯苯（C）
2）非常適合于電子束光刻和X射線曝光
3）高分辨率：<0.1um，PMMA 950適用于高分辨率的應用，PMMA 495則相對較低
4）廣范圍分子量和粘度
應用：電子束光刻、多層T-Gate剝離、晶圓減薄等。
相關溶液：
1）顯影液：MIBK:IPA
2）去膠劑：Remover PG
3）稀釋劑：A Thinner
一般儲存溫度：
10-27℃
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