看了（等離子）原子層沉積系統（PE）ALD的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
主要應用：
-適用于半導體用薄膜（Al2O3， HfO2， ZrO2， TiO2， ZnO ……）
-CIGS太陽能電池無鎘緩沖層沉積
-晶硅太陽能電池表面鈍化層沉積
-硅基WVTR(水蒸氣透過率)的阻擋層
-Micro-OLED封裝層
-柔性襯底用阻擋層
-OLED封裝層
-柔性OLED顯示器、柔性OLED照明、量子點、鈣鈦礦LED、柔性太陽能電池等高水分阻隔膜的卷對卷（R2R)ALD工藝：
-可用于 LTPO TFT IGZO薄膜沉積
特點：
1.ALD高k介質，厚度均勻性好，保形步進覆蓋。
2.先進的工藝套件和小體積的短周期室
3.實現了ALD機構(行波法)
4.小腳印全集成工藝模塊
5.過程控制方便，供氣線路長度小。
暫無數據！
（等離子）原子層沉積系統（PE）ALD的工作原理介紹？（等離子）原子層沉積系統（PE）ALD的使用方法？（等離子）原子層沉積系統（PE）ALD多少錢一臺？（等離子）原子層沉積系統（PE）ALD使用的注意事項（等離子）原子層沉積系統（PE）ALD的說明書有嗎？（等離子）原子層沉積系統（PE）ALD的操作規程有嗎？（等離子）原子層沉積系統（PE）ALD的報價含票含運費嗎？（等離子）原子層沉積系統（PE）ALD有現貨嗎？（等離子）原子層沉積系統（PE）ALD包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
