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由于LTPS TFT具有高電子遷移率，從而得到快速應答。雖然電耗比具有低漏泄電流的Oxide TFT大，但一直應用于消耗大部分電力的智能手機OLED顯示領域。
但*近在提高移動和在穿戴設備的能效上有了新的技術，LTPO (Low Temperature Polycrystalline Oxide) TFT，此技術是電子高遷移率的LTPS TFT和低漏泄電流的Oxide TFT合成技術。在這個TFT中，Switching TFT 需要快速ON/OFF光線，使用了低漏泄電流的Oxide TFT。而Operating TFT需要通過調節光量進行快速畫面切換，所以使用了具有高電子遷移率的LTPS TFT.
智能手表主要使用黑色背景，由于Switching的電耗比較高，采用LTPO TFT可降低約40%的電耗。因此，包括蘋果在內的眾多智能設備制造商正在應用或即將應用LTPO. 另外，由于這種低電耗的優勢，*近三星和蘋果等智能手機制造商正在積極開發，目標是將LTPO顯示屏搭載到高端智能手機上。
Oxide TFT中使用的IGZO薄膜仍在以Sputtering方式沉積，但厚度和成分均勻度的問題，等離子體損傷導致物理電器特性降低以及濺射目標均勻度的問題。但是，當應用 ALD-IGZO時，可以在低溫度工藝下控制原子單位的厚度和組成，因為工藝過程中沒有等離子體損傷，因此可以實現高質量的薄膜沉積。
通過用Thermal ALD的方法控制ALD循環比例，可以獲得目標IGZO的原子組成(In:Ga:Zn)的薄膜。因此，這種方式能夠輕松的調節適合客戶元件結構IGZO的組成。從而獲得優于濺射方式的元件特性。
研發IGZO工藝用高生產率配置ALD系統，該系統采用新的技術，將多元系氧化物IGZO的組成比控制在個別應用領域元件所需的組合比。特別是 GD Series的應用，可在多個大面積基板上沉積ALD，有望在目前迅速應用IGZO薄膜的LTPO TFT s元件中提供質量競爭力和高生產率。
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