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儀器簡介：

* 應用領域

- 常規的光致發光測量；

- III-V族 化合物半導體材料摻雜水平分析、合成組分分析、帶隙分析等

- LD， LED研發，生產中品質分析，控制

-熒光檢測

-EPI-Wafer auto PL Mapping

-鉆石，珠寶鑒定，內含物分析等。

擴展使用:

-PLE(PL 激發）

-TRPL（time-resolved PL)

-TDPL(temperature dependent PL)

-Micro-PL

-Confocal PL

-nano PL by using Nsom(near -field scanning optical microscope

主要特點：

儀器特點 ：

• 高品質及中等價位的PL掃描系統(可選配自動樣品掃描裝置，實現ｍａｐｐｉｎｇ功能)；

• 波長范圍寬廣(UV-VIS-NIR，)；

• 設備堅固，安全，更多于競爭公司產品的特點（如快速mapping檢測）

• 噪聲低，高PL信號探測；

•　可選配多種激發源（多種波長激光源）

• 設計緊湊，易于調諧；

• 各種激發激光源可選；

• 光譜分析軟件可獲得光譜帶寬，峰值波長，峰值副瓣鑒別、光譜數據運算。。。。

•　可實現同時對膜厚及反射率的檢測

•　雙PL峰分離功能

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本系統主要的特點：

1。除激光外，同時可使用分光計和樣品chamber組合而成。

2。利用He-Cd laser，laser power meter對可調節光強的ND filter和laser光強進行監控

3。分光計部分追加了一個port，不僅可以通過CCD探測器進行測定，也可通過PMT/IR Detector進行測定。

4。為了去除來自分光計2nd order的光，利用laser line filter控制cut off filter和laser的plasma line。

根據客戶的需要可與如下裝置一起裝配：

１。ＰＬ＋Micro Raman(顯微拉曼系統）

２。ＰＬ＋Ｃｒｙｏｓｔａｔ（低溫裝置，４Ｋ，７７Ｋ。。）

３。ＰＬ＋ＰＬＥ

４。ＰＬ＋ＰＬＥ＋ＡＴＲ

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