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美國SVT 脈沖激光沉積設備品牌
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美國SVT 脈沖激光沉積設備/PLD應用
● 多元素復合氧化物
● 高溫超導材料
● 磁性材料、金屬材料
● 低蒸汽壓材料
● MEMS
基本系統
腔室及真空泵
12’’ 快速門，250l/s 分子泵，全量程規
沉積源
靶臺，6X1’’(25mm) 靶，可以水平旋轉，可Z方向移動
樣品臺
1’’(25mm)大小，可加熱至800oC（1000oC可選），可水平旋轉，可Z方向移動
在線工藝監控
石英晶振沉積速率監控儀
自動化
自動化裝置：
控制樣品溫度和旋轉
靶臺的位置控制
靶臺旋轉
氣體控制
速率及厚度計算（利用QCM輸出）
激光束掃描（可選）
激光束屏蔽控制
自動泵抽和充氣
差分泵抽結構
RHEED分析（可選）
裝載室壓強監控（可選）
美國SVT 脈沖激光沉積設備/PLD主要特點
RF射頻等離子源(氧，氮)
升級高真空
增加進樣室
升級為Laser-MBE （L-MBE）系統
自動軟件控制
提供更潔凈的薄膜生長環境,控制解決方案
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