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澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）采用場發(fā)射電子槍，配合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)實現(xiàn)對半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨光刻。該系統(tǒng)標(biāo)配高精度激光干涉樣品臺，允許用戶實現(xiàn)大行程高精度拼接和套刻需求，在新材料、前沿物理研究、半導(dǎo)體、微電子、光子、量子研究領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。
產(chǎn)品特色
▲ 激光干涉樣品臺：先進(jìn)的激光干涉樣品臺，滿足大行程高精度拼接和套刻需求
▲ 場發(fā)射電子槍：高分辨場發(fā)射電子槍是光刻質(zhì)量的重要保證
▲ 圖形發(fā)生器：在保證超高速掃描的同時實現(xiàn)超高分辨率圖案繪制
樣品臺指標(biāo)
▲ 標(biāo)配：激光干涉樣品臺
▲ 樣品臺行程：≥105 mm
▲ 拼接精度：優(yōu)于50nm（平均值+ 1σ）
▲ 套刻精度：優(yōu)于50nm（平均值+ 1σ）
電子槍及成像指標(biāo)
▲ 肖特基場發(fā)射電子槍：加速電壓20V~30kV；旁側(cè)二次電子探測器和鏡筒內(nèi)電子探測器
▲ 圖像分辨率：≤1 nm @ 15 kV；≤1.5 nm @ 1 kV
▲ 束流密度：> 7000A/cm2；電子束流≥100nA
▲ *小束斑尺寸：≤2nm
光刻指標(biāo)
▲ 電子束閘：上升沿<100ns
▲ 寫視場：≥500×500 um
▲ *小單次曝光線寬：＜15nm（同時取決于工藝條件）
▲ 掃描速度：≥20MHz
圖形發(fā)生器參數(shù)
▲ 控制核心：高性能FPGA
▲ 停留時間*小增量：10ns
▲ **掃描速度：50MHz
▲ 圖形文件格式：GDSII、DXF、BMP等
▲ D/A分辨率：20位
▲ 法拉第杯束流測量：包含
▲ 支持的寫場大?。?0um~500um
▲ 臨近效應(yīng)校正：可選項
▲ 束閘支持：5V TTL
▲ 激光干涉位移臺：可選項
▲ 掃描方式：順序掃描（Z型）、循環(huán)掃描（S型）、螺旋型掃描等多種矢量掃描模式
▲ 曝光模式：支持場校準(zhǔn)、場拼接，支持套刻，支持多圖層自動曝光
▲ 外接通道支持：支持電子束掃描、工件臺移動、束閘通斷、二次電子檢測
選配附件
▲ 配套UPS不間斷電源
▲ 配套主動減震臺，*低自然頻率2Hz
暫無數(shù)據(jù)！
2025年3月27日上午，銅陵市委書記楊宏星一行蒞臨澤攸科技銅陵總部，實地調(diào)研企業(yè)科技創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)化發(fā)展。總經(jīng)理張小龍陪同參觀研發(fā)實驗室與生產(chǎn)線，詳細(xì)匯報了公司核心產(chǎn)品技術(shù)突破及未來戰(zhàn)略規(guī)劃。在展廳內(nèi)，
眼角帶笑，月光不染眉梢；溫柔不變，一生幸福久安。3月8日是屬于每一位女性的節(jié)日，澤攸科技向所有以智慧與堅韌點亮科技星辰的女神們致敬！愿你們?nèi)绱猴L(fēng)般輕盈，如夏花般絢爛，在事業(yè)與生活的舞臺上綻放獨特光芒。
國產(chǎn)電子束光刻機實現(xiàn)自主可控，是實現(xiàn)我國集成電路產(chǎn)業(yè)鏈自主可控的重要一環(huán)。近日，澤攸科技聯(lián)合松山湖材料實驗室開展的全自主電子束光刻機整機的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目取得重大進(jìn)展，成功研制出電子束光刻系統(tǒng)，實現(xiàn)了
電子束光刻機的工作原理介紹？電子束光刻機的使用方法？電子束光刻機多少錢一臺？電子束光刻機使用的注意事項電子束光刻機的說明書有嗎？電子束光刻機的操作規(guī)程有嗎？電子束光刻機的報價含票含運費嗎？電子束光刻機有現(xiàn)貨嗎？電子束光刻機包安裝嗎？
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