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澤攸科技無掩膜光刻機是一種先進的光刻技術設備，它不需要使用傳統的物理掩膜版來轉移電路圖形，而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光，形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。
技術特點
▲ 納米壓電位移臺拼接技術
▲ 紅光引導曝光，所見即所得
▲ OPC修正算法優化圖形質量
▲ CCD相機逐場自動聚焦
▲ 灰度勻光技術
光路遠離結構圖
主要指標
應用案例
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