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歐洲先進的無掩膜激光直寫系統，*小線寬可達 100nm，為MEMS， BioMEMS， Micro Optics， ASICs， Micro Fluidics， Sensors， CGHs等以及相關微納米結構領域的科研工作者，提供強有力的手段！
技術參數：
加工線寬：*小可達 100nm；
主要特點：
多種曝光模式：
2D曝光模式：構建二維納米結構；
3D曝光模式：可加工三維納米結構；
壓電驅動平臺配合精密自動驅動平臺，具有更高的水平定位分辨率；
系統自動聚焦、糾斜、對準；
多功能試樣夾具；
快速樣品樣品更換：<1秒；
專業圖形設計軟件：支持導入CAD設計軟件，2D和3D隨意簡單設計；
暫無數據！
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