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晶體提拉設備
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型號

晶體提拉設備

品牌

山東力冠

產地

山東

樣本

暫無
山東力冠微電子裝備有限公司

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產品概述/Product Introduction:

? 直拉法晶體生長專用設備,可實現在高壓、真空和保護氣氛下直拉生長晶體

Special equipment for Czochralski crystal growth, which can realize Czochralski crystal growth under high pressure, vacuum and protective atmosphere

? 采用自動稱重結構,在保證晶體品質的前提下實現了直拉晶體的自動生長過程

Adopting automatic weighing structure, the automatic growth process of Czochralski crystal is realized on the premise of ensuring crystal quality

 

產品特點/Product Characteristics:

? 高精度的傳感器和控制軟件

High precision sensor and control software

? 自動控制晶體外形

Automatic control of crystal shape

? **溫度:2400℃

Maximum temperature: 2400℃

? 晶體尺寸:2-8英寸

crystal size: 2-8 inches

 

應用范圍/Scope:

? 應用于氧化家(Ga?O?)單晶生長,SiC單晶、激光單晶生長

Applied to Gallium Oxide(Ga?O?)Single Crystal Growth, SiC Single Crystal Growth and Laser SingleCrystal Growth


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10分

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10分

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10分
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