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FC-3800和FC-4400是適用于潔凈室的、真空鎖結構的系統,專門面向lift-off工藝的大生產應用。這些鍍膜機為連續高效的運行而設計,并提供高均勻性的薄膜沉積。FC-3800的源基間距為34”(965mm),而FC-4400的源基間距為42”(1067mm)。這兩款系統都可配置成獨立機臺或穿墻式潔凈室安裝,也都支持鍍膜源、材料進給、加熱、清洗等附件的各種組合。
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性價比
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等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
XRD系列晶向定位
紅外快速退火爐系統
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