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噴射化學氣相沉積設備(Spray CVD)圖片
本圖片來自上海載德半導體技術有限公司提供的噴射化學氣相沉積設備(Spray CVD)，型號為的半導體行業專用儀器，產地為法國，屬于品牌，參考價格為面議，公司還可為用戶供應高品質的團簇式(星型)多腔體真空沉積系統(Cluster)、脈沖激光沉積系統(PLD)等產品。上海載德半導體技術有限公司是中國粉體網的會員，合作關系長達2年，工商信息已通過人工核驗，獲得粉享通誠信認證，請放心選擇！
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上海載德半導體技術有限公司
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