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TWINSCAN XT:450G 365-nm步進式掃描系統是一種高生產率的雙級光刻工具，設計用于批量生產分辨率低至 220-nm 及以上的關鍵 i-line 應用。TWINSCAN 平臺的雙晶圓臺技術使一個晶圓的曝光和下一個晶圓的對齊和映射能夠并行進行，從而幾乎消除了開銷時間并允許對晶圓進行連續圖案化。

此外，高強度 5.5 kW Hg 燈和快速臺通過*小化每個場的曝光掃描時間和場之間的步進時間來確保**生產力。液位傳感器與 TWINSCAN 調平方法相結合，幾乎消除了內部芯片和邊緣芯片之間的差異，并確保整個 300 毫米晶圓的高良率。高吞吐量和產量與快速的標線交換時間和批量流式傳輸相結合，可提供*低的運營成本。

該工具出色的疊加和成像功能允許將非關鍵 KrF 層轉換為 i-line，從而顯著節省成本。