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ASML Holding NV (ASML) 于2006年末推出了其**的 TWINSCAN 系統，這是一種先進的 193 納米 (nm) 曝光系統，具有成像、覆蓋和吞吐量改進的特點。TWINSCAN XT:1450 的目標是大批量制造，將干燥 ArF 擴展到亞 60 nm。客戶還可以使用它來支持使用雙圖案技術開發 32 納米節點工藝。
XT:1450 是先進的干式 ArF 批量生產系統。它提高了 IC 制造商的所有權價值，在批量制造條件下每小時可生產 143 片晶圓。新的 AERIAL-P 照明器支持高效偏振，加上增強的鏡頭像差控制和增強的疊加性能，使 XT:1450 能夠將干 ArF 的極限擴展到 57 nm 的指定分辨率。
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