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M82300-3/UM型PECVD鍍膜設備品牌
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湖南樣本
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PECVD鍍膜設備即等離子體增強化學氣相淀積設備，是利用高頻電源輝光放電產生等離子體對化學氣相沉積過程施加影響的技術。
M82300-3/UM型五管PECVD設備既可用于淀積電池片正面氧化硅減反射膜，也可用于淀積電池片背面鈍化膜。
硅片尺寸可從166mm兼容到220mm;
單管載片量可到680片，雙舟設計；
輔助加熱技術，可大幅改善工藝均勻性；
具備背面氧化鋁工藝能力。
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