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一、設備概述：
臥式擴散爐設備可應用于集成電路、分立器件、 POWER、 MEMS等多種領域，適用于4-8英寸晶圓芯片的氧化、擴散、GPP、退火、合金等工藝。
擴散工藝是在高溫條件下，利用熱擴散原理將雜質元素按要求的深度摻入硅襯底中，使其具有特定的濃度分布，達到改變材料的電學特性，形成半導體器件結構的目的。可用于制作PN結或構成集成電路中的電阻、電容、二極管和晶體管等器件。
二、設備參數類型：
設備性能指標 | ||
1 | 操作方式 | 根據客戶操作可定左/右手操作 |
2 | 管路數 | 1-5管 |
3 | 加工晶圓尺寸 | 4-8寸 |
4 | 適用工藝 | 擴散（磷擴、硼擴）、氧化（干氧、合成）、玻璃鈍化（GPP）、退火、合金、鋁預沉積 |
5 | 溫度校準功能 | 具有自動校準溫區功能，具有預先寫入偏差值快速拉溫區功能 |
6 | 控溫模式 | Spike控溫+Profile串級控溫 |
7 | 控制系統結構 | 一體工控機+PLC |
8 | 報警保護: | 具有超溫報警，斷偶報警，氣體互鎖，氣體緩啟動等功能 |
三、設備主要特點和優勢
1★具有強大的操作功能，windows界面，顯示屏操作，用戶可以方便地修改工藝控制參數，并可隨時顯示各種工藝狀態；配有故障自診斷軟件，可大大節省維修時間；
2★采用可靠性工控機+PLC模式，對爐溫、進退舟、氣體流量、閥門進行全自動控制,實現全部工藝過程自動化；
3★程序可以實現手/自動工作，在停電或中途停機后，再次啟動可以根據工藝手動升溫，節省工藝時間；
4★具有多種工藝管路，可供用戶方便選擇；
5★冷端采用PT100檢測環境溫度進行溫度補償，避免環境溫度變化，對爐膛溫度產生影響，避免層間干擾；
6★推拉舟控制采用高速脈沖閉環控制，避免馬達丟步，運行顫抖現象。推拉舟運行完一個周期，自動校準位置，有效防止定位偏差；
7★氣體流量控制精確，采用模擬信號閉環控制，強弱電分開，各種數據交互采用標準總線，提高抗干擾能力，保證數據安全；氣體打開具有緩啟動功能；
8★具有多種報警功能及安全保護功能；
9★恒溫區自動調整，串級控制，可準確控制反應管的實際工藝溫度；
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