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電子束蒸發(fā)設(shè)備—E-Beam-HV品牌
致真精密產(chǎn)地
安徽樣本
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電子束蒸發(fā)設(shè)備可以在高真空和超高真空環(huán)境下實(shí)現(xiàn)精確的多層薄膜制備。線性電子束槍可以實(shí)現(xiàn)多種材料的蒸發(fā)。設(shè)備可選配考夫曼離子源實(shí)現(xiàn)晶圓的預(yù)清洗，可用于超導(dǎo)量子等領(lǐng)域，適用于高校及企業(yè)研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)場合。
性能參數(shù)
| 晶圓尺寸 | 4inch~8inch |
| 極限真空 | 優(yōu)于1×10-7mbar |
| 溫控 | RT-800℃ |
| 電子束槍 | 多坩堝旋轉(zhuǎn)電子束槍，可選配坩堝數(shù)量和容量（標(biāo)配，10KW，8×20cc） |
六大特色 懂你所需
企業(yè)/高校性能之選
測試案列
隨著超導(dǎo)量子計(jì)算的發(fā)展，高校實(shí)驗(yàn)室和企業(yè)對于超導(dǎo)量子電路的核心器件——約瑟夫森結(jié)有著極高的制備要求。該設(shè)備可專門用于制備Al基、Nb基等各類約瑟夫森結(jié)，以下是制備的約瑟夫森結(jié)的光學(xué)照像。
約瑟夫森結(jié)的光學(xué)圖像
溫度測試
下圖是加熱臺(tái)溫度測試圖，加熱臺(tái)可以實(shí)現(xiàn)**800攝氏度的晶圓加熱，并且電子束蒸發(fā)過程中溫升較低，滿足不同材料的沉積需求。
暫無數(shù)據(jù)！
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